High-k

 high-dielectric-constant film
高誘電率膜。SiO2などに比べて非常に大きい誘電率をもつ誘電体薄膜。微細化が進むIC の小型キャパシタやメモリセルの材料として開発が進んでいる。ハフニウム（Hf）系材料などがある。