Low-k

low-dielectric-constant film
低誘電率膜。主に層間の絶縁に使う。ICで最も広く用いられている絶縁膜である二酸化シリコン（SiO2、比誘電率が約4）膜より低い比誘電率をもつ膜の総称。多層配線による信号遅延の問題を避けるため、層間絶縁膜として有機物やポーラス（多孔質）材料まで含めてさまざまな材料、薄膜が開発されている。
→High-k