イオン注入

ion implantation
イオン打ち込みともいう。原子をイオン化して加速し、固体中に注入すること。この原子を不純物原子と呼ぶ。物体の性質を変える方法の一つ。半導体では、MOSトランジスタのソースやドレイン領域をp 型またはn 型にするためや、一部を低抵抗にするために利用する（不純物注入）。熱拡散で不純物を導入する方法に比べて、濃度や分布を制御しやすい。