位相シフトマスク

phase-shifting mask（PSM）
光の位相や透過率を制御することで、解像度や焦点深度（DOF：Depth of Field）を改善し、転写特性を向上させたフォトマスク。露光波長以下のリソグラフィには標準的に使われる。「ハーフトーン型」（Attenuated PSM）や「レベンソンマスク」（AlternativePSM）などがある。これに対して、従来の通常のフォトマスク（クロムマスク）は、光を透過する/遮断するという機能だけのため、バイナリマスクという。
　→ 光学近接効果補正、超解像、レベンソンマスク、リソグラフィ