エキシマレーザ

excimer laser
IC のリソグラフィ工程（露光工程）で用いるレーザ光源のこと。KrF（フッ化クリプトンエキシマレーザ、波長248nm）、ArF（フッ化アルゴンエキシマレーザ、波長193nm）、F2（フッ素エキシマレーザ、波長157nm）などがある。KrFはハーフピッチ0.25 ～ 0.13μm の量産に、またArFは同0.13 ～ 0.07μm 用として採用されている。