液浸リソグラフィ

immersion lithography
フォトリソグラフィ（光露光）で、縮小投影レンズとフォトレジスト（ウェハ基板）との間に、屈折率が1より大きい液体を充填してパターンを転写する技術。液体の屈折率をnとすると、投影レンズの開口数NAがn 倍に拡大され、解像性能がn 倍向上する。現状では液体として水（n ＝ 1.4）が用いられている。
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