熱CVD

thermal chemical vapor deposition
CVD の一つ。熱化学的気相成長法ともいう。ウェハや膜堆積用材料ガスを200 ～ 900 ℃に加熱し、イオンラジカルなどを発生させてウェハと化学反応を起こし成膜する方法で、成膜時の圧力によって、常圧CVD、減圧CVDに分類される。