リソグラフィ

lithography
マスクに描かれた回路パターンをウェハ上に露光転写する工程または技術。ウェハにレジスト（感光性樹脂）を塗布し、これにマスクのパターンを焼き付け、現像する。光の当たったところとそうでないところで、現像後にレジストが残る/残らないに分かれ、レジストの凹凸パターンとなる。この仕組みからリソグラフィ（石版）と呼ばれる。このレジストパターンを基に、ウェハに微細な加工を加える。これには、エッチング（削り取る）、デポジション（別の材料を堆積する）、ドーピング（適当な不純物をしみ込ませる）がある。紫外線を使う光露光（フォトリソグラフィ）、電子線露光、X 線露光などがある。
　→ フォトエッチング