レベンソン型位相シフトマスク

alternative phase-shifting mask
ラインパターンの一つおきに、位相を変えるシフタを配置したマスク。交互位相配置型（AAPSM：Alter Aperture Phase Shift Mask）ともいう。シフタ構造としては、マスク基板（石英）を掘り込んだものが多い。この溝（位相シフタ）を通過した光は、位相が180 度変わり、シフタのない部分を透過した光と位相を打ち消し合う。結果的に、ウェハ上でパターンエッジ部の光の強弱が明確になり、解像度が向上する。
→位相シフトマスク、光学近接効果補正、超解像、リソグラフィ、ハーフトーン型位相シフトマスク