光学近接効果補正

optical proximity correction（OPC）
IC の加工寸法が微細化し露光波長に近づくと、マスクパターンの形状や大きさ、隣接パターンの影響によって、マスクパターンを忠実にウェハ上に露光できなくなる。この現象を光学近接効果（OPE：Optical Proximity Effect）という。そこで、あらかじめ変形を見越して、パターンの形状に応じて、パターンのエッジに段差（ジョグ）を付けたり、別のパターンを加えたり（ハンマヘッドやアシストバー、セリフ）、またパターン幅を変えるなどの補正を行う。これをOPCという。