ステッパ

stepper
縮小投影露光装置。IC製造工程でマスクパターンをウェハ上に転写する露光工程で使用する装置。マスク（レティクル）をレンズ光学系を介してウェハ上に縮小投影し、繰り返し転写（Step and Repeat）することからこの名がついた。